华大九天涨超20%，新莱应材盘中创新高

南大光电(300346)近日在投资者互动平台表达，公司光刻胶项目所需的光刻车间已建成，项目所需的关键先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机技术、CD-SEM（特征尺寸测量用扫描电子显微镜）、涂胶显影一体机等已经完成安装并投入使用。已经生产出多款样品发往下游客户验证，已具备了ArF光刻胶及配套材料产业化的基础条件。

晶瑞电材表达，公司KrF（248nm深紫外）光刻胶产品分辨率达到了0.25～0.13μm的技术要求，已通过部分重大客户测试，KrF光刻胶生产及测试线已经基础建成，设备正在安装调试中，争取今年批量供货。

新莱应材(300260)称，公司一直专心于超高干净应用材料的钻研、制造与销售，是国内唯独覆盖泛半导体(512480)材料、生物医药(512290)、食品安全三大领域的高干净应用材料制造商。公司的半导体(512480)材料真空系统和气体系统可以服务于相关的泛半导体(512480)材料设备供应商和终端制造商，设备端客户以直供的方式与客户合作，在厂务端一般通过工程公司间接供给（最终用户指定）。泛半导体(512480)材料真空产品的AdvanTorr品牌以及气体产品的NanoPure品牌均可以应用到泛半导体(512480)材料产业链上下游中。股票行情哪种好

容大感光(300576)表达，自设立以来，一直致力于PCB光刻胶、显示用光刻胶、半导体(512480)材料用光刻胶、特种油墨等电子化学品的研发、生产和销售。公司产品关键应用在PCB、平板显示（液晶显示、触摸屏等）、集成电路、发光二极管、周密金属加工等领域。

华大九天自7月29日登陆创业板(159915)，首日上涨约130%。公司关键从事EDA工具软件的开发、销售及相关服务。EDA工具是集成电路领域的上游基础工具，应用于集成电路设计、制造、封装、测试等产业链各个环节，是集成电路产业的战略基础支柱之一。公司关键产品包含模拟电路设计全流程EDA工具系统、数字电路设计EDA工具、平板显示电路设计全流程EDA工具系统和晶圆制造EDA工具等EDA工具软件，并紧紧围绕相关领域提供技术开发服务。公司相关产品和服务关键应用于集成电路设计及制造领域。

中泰证券指出，全球光刻胶销售市场关键由美日企业主导，CR4约70%。近年来，随着光刻胶的需求攀升，叠加日本龙头减产，光刻胶隐藏供不应求的局面，部分中小晶圆厂乃至隐藏了“断供”现象。目前大陆企业在g/i线光刻胶已形成肯定规模的销售，中高端光刻胶方面，彤程新材(603650)的KrF光刻胶产品已批量供应国内关键12英寸、8英寸晶圆厂，晶瑞电材KrF　光刻胶加紧建设中，另有多家企业ArF光刻胶研发顺利进行，其中南大光电(300346)ArF产品已通过下游客户验证，有望在将来形成销售，光刻胶国产替代行情趋势显著。股票行情哪种好